高精密拋光機是一種專門用于精細表面處理的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導體、光學器件、精密儀器、航空航天和高端制造等領(lǐng)域 主要特點 高精度控制：能夠在微米級甚至納米級進行拋光處理，確保工件表面的平整度和光潔度。 多種拋光方式：包括機械拋光、化學機械拋光（CMP）、磁流體拋光